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企業(yè)IPR管理經(jīng)驗(九)|淺談專利申請文件的撰寫規(guī)范

深度
知聯(lián)社3年前
企業(yè)IPR管理經(jīng)驗(九)|淺談專利申請文件的撰寫規(guī)范

企業(yè)IPR管理經(jīng)驗(九)|淺談專利申請文件的撰寫規(guī)范

#本文僅代表作者觀點,不代表IPRdaily立場,未經(jīng)作者許可,禁止轉(zhuǎn)載#


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:陳易華

原標題:淺談專利申請文件的撰寫規(guī)范


由于專利申請文件的撰寫質(zhì)量直接影響一項專利權(quán)能否形成、專利權(quán)人能否獲得有效的合法、最大化的法律保護,因此,專利代理人或?qū)@珜懭藛T應(yīng)當努力減少專利申請文件的撰寫損失,使其趨于零,從而最大限度地保護申請人的利益。


專利制度為現(xiàn)代市場經(jīng)濟的運作提供了重要的規(guī)則。按照這一規(guī)則,誰擁有專利,誰就擁有市場主動權(quán),而擁有專利的關(guān)鍵不但在于專利的申請,更在于專利權(quán)的獲得和專利權(quán)的有效性。只有在申請階段保證專利申請文件的質(zhì)量,才可能保證專利權(quán)的獲得及其有效性,從而進一步保證市場運作的收益。


專利申請文件的撰寫質(zhì)量,對一項專利權(quán)的取得和保護的影響表現(xiàn)在多個方面,對一項專利權(quán)能否形成、專利權(quán)人能否獲得有效的合法、最大化的法律保護,起著關(guān)鍵的作用。專利法及專利法實施細則均對專利申請文件的撰寫規(guī)范提出了詳盡的要求。



專利申請文件撰寫的基本原則


專利申請文件的撰寫不同于純技術(shù)文件,尤其是權(quán)利要求書和說明書是發(fā)明和實用新型專利申請中最重要的兩個部分,它們的撰寫是一項法律性、技術(shù)性很強的工作。專利申請文件的撰寫兼具法律性和技術(shù)性,其撰寫的好壞將會直接影響到發(fā)明創(chuàng)造能否獲得專利授權(quán)以及專利申請在專利局的審批速度。


為提高專利申請文件的質(zhì)量,加快專利審批進度,使發(fā)明創(chuàng)造得到較好的保護,撰寫專利申請文件需要遵循的基本原則包括:


1、嚴密性:避免不必要、不恰當?shù)挠谜Z,或者不嚴肅的口語化用語,以避免對專利的保護范圍造成無謂的限制或損害。


2、準確性:內(nèi)容的描述,用語應(yīng)當清楚、準確、無歧義。


3、規(guī)范性:符合專利法、專利法實施細則以及審查指南的規(guī)定。


4、邏輯性:內(nèi)容的描述應(yīng)當保持前后一致,富有邏輯性,不能前后矛盾,模糊不清。


5、條理性:內(nèi)容的描述應(yīng)條理清晰,結(jié)構(gòu)合理。


6、客觀性:在描述技術(shù)內(nèi)容時,保持對技術(shù)內(nèi)容的客觀分析,避免在技術(shù)內(nèi)容中加入主觀臆斷的內(nèi)容。


 

專利說明書的撰寫原則


說明書是一個技術(shù)性文件,是專利申請文件最重要的一部分,是申請專利的核心文件。同時,說明書也是一個法律性文件,在實踐當中,說明書撰寫的好與差,將會影響到專利權(quán)是否能夠獲得。


筆者認為,在撰寫專利說明書時,需要遵循的原則包括:


1、再創(chuàng)作:說明書基于技術(shù)交底書,是對技術(shù)交底書的再創(chuàng)作,專利代理人或?qū)@珜懭藛T應(yīng)從專業(yè)角度出發(fā)對技術(shù)交底書內(nèi)容的描述思路、語言進行充分調(diào)整和修改,包括:


1.1、對技術(shù)交底書中提供的技術(shù)方案應(yīng)有所擴展,不能僅依據(jù)技術(shù)交底書撰寫說明書,應(yīng)將具體實施方式擴展至合理的數(shù)目和范圍;


1.2、對技術(shù)交底書中描述的現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容以及本發(fā)明的內(nèi)容進行整理和調(diào)整,以滿足說明書背景技術(shù)和具體實施方式部分的要求;


1.3、增加或補充部分技術(shù)內(nèi)容,以達到公開充分的要求;


1.4、對技術(shù)描述的思路進行整理,增加描述的邏輯性和條理性,尤其要突出描述與權(quán)利要求相對應(yīng)的實施方式;


1.5、修改用語不嚴謹、不規(guī)范之處,消除用語前后不一致和錯別字明顯的形式性問題。


2、充分理解:在撰寫專利說明書之前,專利代理人或?qū)@珜懭藛T應(yīng)當充分理解技術(shù)交底書的內(nèi)容,包括:


2.1、通過查閱網(wǎng)上資料、書籍或?qū)@墨I等資料,熟悉發(fā)明內(nèi)容所涉及到的技術(shù)的基本知識;


2.2、充分理解技術(shù)交底書中的技術(shù)內(nèi)容,明確現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題、本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)之間的區(qū)別性技術(shù)特征、本發(fā)明所采取的技術(shù)方案的要點以及相應(yīng)的有益效果。


3、謹慎刪改:充分公開是專利說明書的一個基本要求,原則上不允許對發(fā)明人在技術(shù)交底書中提供的技術(shù)內(nèi)容進行實質(zhì)性刪除和修改;當必須對發(fā)明人提供的實質(zhì)性技術(shù)內(nèi)容進行實質(zhì)性刪除和修改時,應(yīng)與發(fā)明人進行充分溝通和討論,并得到發(fā)明人的(書面)確認。


4、技術(shù)語言與法律語言的結(jié)合:在撰寫專利說明書時,應(yīng)當以自然語言描述技術(shù)方案,尤其是涉及計算機程序的專利申請,應(yīng)當以自然語言的方式描述計算機程序和流程;對容易產(chǎn)生歧義的用語應(yīng)當反復(fù)推敲,尤其是對作為兼顧技術(shù)語言與法律語言的嚴謹性的謂語的動詞的反復(fù)推敲;同時還應(yīng)避免所用的描述用語過于生硬或者刻板。


5、層次清楚:在撰寫具體實施方式時,應(yīng)當使具體實施方式的邏輯結(jié)構(gòu)、體例層次清楚:


根據(jù)情況的需要,在撰寫具體實施方式時可以采用“金字塔”結(jié)構(gòu)或者“倒金字塔”結(jié)構(gòu),但整個具體實施方式在結(jié)構(gòu)上應(yīng)保持一致;在后出現(xiàn)的技術(shù)特征或術(shù)語,應(yīng)當在前有所說明,不得突然出現(xiàn)在前未出現(xiàn)的技術(shù)特征或術(shù)語;同時,前后段落或上下文之間應(yīng)有良好的承接關(guān)系,應(yīng)避免“東拼西湊”、“東拉西扯”、“前后不一致”、“邏輯結(jié)構(gòu)不清”等情況的出現(xiàn)。


6、充分公開:對具體實施方式中的技術(shù)方案,在描述上應(yīng)當充分公開,清楚、且具體地說明了整體技術(shù)方案的內(nèi)容;對技術(shù)方案中的技術(shù)特征,應(yīng)當盡可能闡述每個技術(shù)特征的特征、用途、工作原理,以及盡可能闡述各技術(shù)特征與其它技術(shù)特征的連接關(guān)系或工作關(guān)系等,從局部到整體或從整體到局部,或從抽象到具體地體現(xiàn)出整個技術(shù)方案。


7、適當簡要:背景技術(shù)中盡量不要引用專利文獻或技術(shù)文獻,以免在申請國外專利時,可能需要翻譯該引用文獻;背景技術(shù)中盡量減少對現(xiàn)有技術(shù)的描述,使用語言應(yīng)當簡練,以減少向國外申請專利時的翻譯費用;減少對重復(fù)的技術(shù)特征和技術(shù)方案的說明,采用“結(jié)合”、“參照”或“前述”等用語簡要概括;涉及到具體電路的,如果發(fā)明創(chuàng)造不在于電路本身,不要將具體的電路圖加入到說明書中,除非有必要,且最好以框圖的方式對該電路進行描述。


8、實施例與權(quán)利要求相對應(yīng):在撰寫專利說明書的具體實施方式部分時,尤其注意突出描述與權(quán)利要求相對應(yīng)的實施例,必要時應(yīng)當說明與相應(yīng)實施例相對應(yīng)的有益效果,在描述實施例時可以采取就近處理的原則。


 

專利權(quán)利要求的撰寫原則


權(quán)利要求書不同于通常意義下的文學(xué)作品,文學(xué)作品的用詞活潑、語法結(jié)構(gòu)豐富、語言富有藝術(shù)感染力,力求給讀者留下深刻印象。權(quán)利要求書也不同于技術(shù)文件,技術(shù)文件的用詞要求準確、嚴謹、符合邏輯。權(quán)利要求書是技術(shù)性和法律性相結(jié)合的法律文件,其用詞不但要求準確、嚴謹、符合邏輯,而且需要高度的概括性語言表達方式。


撰寫權(quán)利要求是一項技術(shù)性和法律性很強的工作,有時難免把對實現(xiàn)發(fā)明目的、效果不甚重要的技術(shù)特征寫入了獨立權(quán)利要求中,大大縮小了專利的保護范圍,筆者認為,在撰寫專利權(quán)利要求時,需要遵循的原則包括:


1、范圍合理:撰寫?yīng)毩?quán)利要求時,應(yīng)當盡量擴大保護范圍,但應(yīng)當保證權(quán)利要求所限定的技術(shù)方案滿足新穎性和創(chuàng)造性為限。


2、全面覆蓋:在滿足單一性的情況下,獨立權(quán)利要求的布局應(yīng)當嚴密,應(yīng)當盡可能覆蓋所有可能存在的侵權(quán)情況;當發(fā)明中的方法或者產(chǎn)品中有可能單獨被商業(yè)利用時,要采取相應(yīng)的權(quán)利要求予以保護。


3、逐步刪除:對獨立權(quán)利要求中必要技術(shù)特征的提煉,可以采取逐步刪除的方式;獨立權(quán)利要求應(yīng)當滿足其所限定的技術(shù)方案的完整性,且能夠?qū)崿F(xiàn)發(fā)明目的;同時刪除非必要技術(shù)特征。


4、單一性:在存在多個獨立權(quán)利要求時,應(yīng)當注意不同的獨立權(quán)利要求之間的單一性,在單一性是依靠特定技術(shù)特征來保證時,應(yīng)當確認該特定技術(shù)特征是必要技術(shù)特征,且是發(fā)明點;在多個獨立權(quán)利要求之間不滿足單一性時,建議分案。


5、連接關(guān)系:在撰寫產(chǎn)品權(quán)利要求時,在寫明產(chǎn)品組成部分的同時,應(yīng)當寫明產(chǎn)品組成部分之間的連接關(guān)系,產(chǎn)品組成部分之間的連接關(guān)系包括各部分之間的硬連接關(guān)系,或者根據(jù)信號或者數(shù)據(jù)處理流向產(chǎn)生的邏輯連接關(guān)系。


6、層層遞減:從屬權(quán)利要求是對獨立權(quán)利要求中技術(shù)特征的進一步限定,或者是對獨立權(quán)利要求所限定的技術(shù)特征的進一步補充;從屬權(quán)利要求應(yīng)當與專利說明書中的具體實施方式相對應(yīng),其布局可以采取層層遞減的原則;應(yīng)特別注意,獨立權(quán)利要求的保護范圍非常大或較大時,從屬權(quán)利要求應(yīng)逐步縮小其保護范圍,而不應(yīng)立即限定在一個或多個非常小或較小的保護范圍,尤其在撰寫實用新型專利申請文件時。


7、鏈式引用和樹狀引用:對于創(chuàng)造性較高的發(fā)明,從屬權(quán)利要求的引用以樹狀引用為主;對于創(chuàng)造性較低的發(fā)明,從屬權(quán)利要求的引用以鏈式引用為主。


由于專利申請文件的撰寫質(zhì)量直接影響一項專利權(quán)能否形成、專利權(quán)人能否獲得有效的合法、最大化的法律保護,因此,專利代理人或?qū)@珜懭藛T應(yīng)當努力減少專利申請文件的撰寫損失,使其趨于零,從而最大限度地保護申請人的利益。


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來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:陳易華

編輯:IPRdaily王穎          校對:IPRdaily縱橫君


注:原文鏈接企業(yè)IPR管理經(jīng)驗(九)|淺談專利申請文件的撰寫規(guī)范點擊標題查看原文)


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