企業(yè)IPR管理經(jīng)驗（九）｜淺談專利申請文件的撰寫規(guī)范

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來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：陳易華

原標題：淺談專利申請文件的撰寫規(guī)范

由于專利申請文件的撰寫質(zhì)量直接影響一項專利權(quán)能否形成、專利權(quán)人能否獲得有效的合法、最大化的法律保護，因此，專利代理人或?qū)＠珜懭藛T應當努力減少專利申請文件的撰寫損失，使其趨于零，從而最大限度地保護申請人的利益。

專利制度為現(xiàn)代市場經(jīng)濟的運作提供了重要的規(guī)則。按照這一規(guī)則，誰擁有專利，誰就擁有市場主動權(quán)，而擁有專利的關鍵不但在于專利的申請，更在于專利權(quán)的獲得和專利權(quán)的有效性。只有在申請階段保證專利申請文件的質(zhì)量，才可能保證專利權(quán)的獲得及其有效性，從而進一步保證市場運作的收益。

專利申請文件的撰寫質(zhì)量，對一項專利權(quán)的取得和保護的影響表現(xiàn)在多個方面，對一項專利權(quán)能否形成、專利權(quán)人能否獲得有效的合法、最大化的法律保護，起著關鍵的作用。專利法及專利法實施細則均對專利申請文件的撰寫規(guī)范提出了詳盡的要求。

專利申請文件撰寫的基本原則

專利申請文件的撰寫不同于純技術(shù)文件，尤其是權(quán)利要求書和說明書是發(fā)明和實用新型專利申請中最重要的兩個部分，它們的撰寫是一項法律性、技術(shù)性很強的工作。專利申請文件的撰寫兼具法律性和技術(shù)性，其撰寫的好壞將會直接影響到發(fā)明創(chuàng)造能否獲得專利授權(quán)以及專利申請在專利局的審批速度。

為提高專利申請文件的質(zhì)量，加快專利審批進度，使發(fā)明創(chuàng)造得到較好的保護，撰寫專利申請文件需要遵循的基本原則包括：

1、嚴密性：避免不必要、不恰當?shù)挠谜Z，或者不嚴肅的口語化用語，以避免對專利的保護范圍造成無謂的限制或損害。

2、準確性：內(nèi)容的描述，用語應當清楚、準確、無歧義。

3、規(guī)范性：符合專利法、專利法實施細則以及審查指南的規(guī)定。

4、邏輯性：內(nèi)容的描述應當保持前后一致，富有邏輯性，不能前后矛盾，模糊不清。

5、條理性：內(nèi)容的描述應條理清晰，結(jié)構(gòu)合理。

6、客觀性：在描述技術(shù)內(nèi)容時，保持對技術(shù)內(nèi)容的客觀分析，避免在技術(shù)內(nèi)容中加入主觀臆斷的內(nèi)容。

專利說明書的撰寫原則

說明書是一個技術(shù)性文件，是專利申請文件最重要的一部分，是申請專利的核心文件。同時，說明書也是一個法律性文件，在實踐當中，說明書撰寫的好與差，將會影響到專利權(quán)是否能夠獲得。

筆者認為，在撰寫專利說明書時，需要遵循的原則包括：

1、再創(chuàng)作：說明書基于技術(shù)交底書，是對技術(shù)交底書的再創(chuàng)作，專利代理人或?qū)＠珜懭藛T應從專業(yè)角度出發(fā)對技術(shù)交底書內(nèi)容的描述思路、語言進行充分調(diào)整和修改，包括：

1.1、對技術(shù)交底書中提供的技術(shù)方案應有所擴展，不能僅依據(jù)技術(shù)交底書撰寫說明書，應將具體實施方式擴展至合理的數(shù)目和范圍；

1.2、對技術(shù)交底書中描述的現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容以及本發(fā)明的內(nèi)容進行整理和調(diào)整，以滿足說明書背景技術(shù)和具體實施方式部分的要求；

1.3、增加或補充部分技術(shù)內(nèi)容，以達到公開充分的要求；

1.4、對技術(shù)描述的思路進行整理，增加描述的邏輯性和條理性，尤其要突出描述與權(quán)利要求相對應的實施方式；

1.5、修改用語不嚴謹、不規(guī)范之處，消除用語前后不一致和錯別字明顯的形式性問題。

2、充分理解：在撰寫專利說明書之前，專利代理人或?qū)＠珜懭藛T應當充分理解技術(shù)交底書的內(nèi)容，包括：

2.1、通過查閱網(wǎng)上資料、書籍或?qū)＠墨I等資料，熟悉發(fā)明內(nèi)容所涉及到的技術(shù)的基本知識；

2.2、充分理解技術(shù)交底書中的技術(shù)內(nèi)容，明確現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題、本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)之間的區(qū)別性技術(shù)特征、本發(fā)明所采取的技術(shù)方案的要點以及相應的有益效果。

3、謹慎刪改：充分公開是專利說明書的一個基本要求，原則上不允許對發(fā)明人在技術(shù)交底書中提供的技術(shù)內(nèi)容進行實質(zhì)性刪除和修改；當必須對發(fā)明人提供的實質(zhì)性技術(shù)內(nèi)容進行實質(zhì)性刪除和修改時，應與發(fā)明人進行充分溝通和討論，并得到發(fā)明人的（書面）確認。

4、技術(shù)語言與法律語言的結(jié)合：在撰寫專利說明書時，應當以自然語言描述技術(shù)方案，尤其是涉及計算機程序的專利申請，應當以自然語言的方式描述計算機程序和流程；對容易產(chǎn)生歧義的用語應當反復推敲，尤其是對作為兼顧技術(shù)語言與法律語言的嚴謹性的謂語的動詞的反復推敲；同時還應避免所用的描述用語過于生硬或者刻板。

5、層次清楚：在撰寫具體實施方式時，應當使具體實施方式的邏輯結(jié)構(gòu)、體例層次清楚：

根據(jù)情況的需要，在撰寫具體實施方式時可以采用“金字塔”結(jié)構(gòu)或者“倒金字塔”結(jié)構(gòu)，但整個具體實施方式在結(jié)構(gòu)上應保持一致；在后出現(xiàn)的技術(shù)特征或術(shù)語，應當在前有所說明，不得突然出現(xiàn)在前未出現(xiàn)的技術(shù)特征或術(shù)語；同時，前后段落或上下文之間應有良好的承接關系，應避免“東拼西湊”、“東拉西扯”、“前后不一致”、“邏輯結(jié)構(gòu)不清”等情況的出現(xiàn)。

6、充分公開：對具體實施方式中的技術(shù)方案，在描述上應當充分公開，清楚、且具體地說明了整體技術(shù)方案的內(nèi)容；對技術(shù)方案中的技術(shù)特征，應當盡可能闡述每個技術(shù)特征的特征、用途、工作原理，以及盡可能闡述各技術(shù)特征與其它技術(shù)特征的連接關系或工作關系等，從局部到整體或從整體到局部，或從抽象到具體地體現(xiàn)出整個技術(shù)方案。

7、適當簡要：背景技術(shù)中盡量不要引用專利文獻或技術(shù)文獻，以免在申請國外專利時，可能需要翻譯該引用文獻；背景技術(shù)中盡量減少對現(xiàn)有技術(shù)的描述，使用語言應當簡練，以減少向國外申請專利時的翻譯費用；減少對重復的技術(shù)特征和技術(shù)方案的說明，采用“結(jié)合”、“參照”或“前述”等用語簡要概括；涉及到具體電路的，如果發(fā)明創(chuàng)造不在于電路本身，不要將具體的電路圖加入到說明書中，除非有必要，且最好以框圖的方式對該電路進行描述。

8、實施例與權(quán)利要求相對應：在撰寫專利說明書的具體實施方式部分時，尤其注意突出描述與權(quán)利要求相對應的實施例，必要時應當說明與相應實施例相對應的有益效果，在描述實施例時可以采取就近處理的原則。

專利權(quán)利要求的撰寫原則

權(quán)利要求書不同于通常意義下的文學作品，文學作品的用詞活潑、語法結(jié)構(gòu)豐富、語言富有藝術(shù)感染力，力求給讀者留下深刻印象。權(quán)利要求書也不同于技術(shù)文件，技術(shù)文件的用詞要求準確、嚴謹、符合邏輯。權(quán)利要求書是技術(shù)性和法律性相結(jié)合的法律文件，其用詞不但要求準確、嚴謹、符合邏輯，而且需要高度的概括性語言表達方式。

撰寫權(quán)利要求是一項技術(shù)性和法律性很強的工作，有時難免把對實現(xiàn)發(fā)明目的、效果不甚重要的技術(shù)特征寫入了獨立權(quán)利要求中，大大縮小了專利的保護范圍，筆者認為，在撰寫專利權(quán)利要求時，需要遵循的原則包括：

1、范圍合理：撰寫獨立權(quán)利要求時，應當盡量擴大保護范圍，但應當保證權(quán)利要求所限定的技術(shù)方案滿足新穎性和創(chuàng)造性為限。

2、全面覆蓋：在滿足單一性的情況下，獨立權(quán)利要求的布局應當嚴密，應當盡可能覆蓋所有可能存在的侵權(quán)情況；當發(fā)明中的方法或者產(chǎn)品中有可能單獨被商業(yè)利用時，要采取相應的權(quán)利要求予以保護。

3、逐步刪除：對獨立權(quán)利要求中必要技術(shù)特征的提煉，可以采取逐步刪除的方式；獨立權(quán)利要求應當滿足其所限定的技術(shù)方案的完整性，且能夠?qū)崿F(xiàn)發(fā)明目的；同時刪除非必要技術(shù)特征。

4、單一性：在存在多個獨立權(quán)利要求時，應當注意不同的獨立權(quán)利要求之間的單一性，在單一性是依靠特定技術(shù)特征來保證時，應當確認該特定技術(shù)特征是必要技術(shù)特征，且是發(fā)明點；在多個獨立權(quán)利要求之間不滿足單一性時，建議分案。

5、連接關系：在撰寫產(chǎn)品權(quán)利要求時，在寫明產(chǎn)品組成部分的同時，應當寫明產(chǎn)品組成部分之間的連接關系，產(chǎn)品組成部分之間的連接關系包括各部分之間的硬連接關系，或者根據(jù)信號或者數(shù)據(jù)處理流向產(chǎn)生的邏輯連接關系。

6、層層遞減：從屬權(quán)利要求是對獨立權(quán)利要求中技術(shù)特征的進一步限定，或者是對獨立權(quán)利要求所限定的技術(shù)特征的進一步補充；從屬權(quán)利要求應當與專利說明書中的具體實施方式相對應，其布局可以采取層層遞減的原則；應特別注意，獨立權(quán)利要求的保護范圍非常大或較大時，從屬權(quán)利要求應逐步縮小其保護范圍，而不應立即限定在一個或多個非常小或較小的保護范圍，尤其在撰寫實用新型專利申請文件時。

7、鏈式引用和樹狀引用：對于創(chuàng)造性較高的發(fā)明，從屬權(quán)利要求的引用以樹狀引用為主；對于創(chuàng)造性較低的發(fā)明，從屬權(quán)利要求的引用以鏈式引用為主。

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來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：陳易華

編輯：IPRdaily王穎校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：企業(yè)IPR管理經(jīng)驗（九）｜淺談專利申請文件的撰寫規(guī)范（點擊標題查看原文）

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