一圖讀懂！《中華人民共和國專利法實(shí)施細(xì)則》最新修改內(nèi)容詳解

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“《中華人民共和國專利法實(shí)施細(xì)則》最新修改內(nèi)容詳解（一）。”

近日，國家知識產(chǎn)權(quán)局發(fā)布了《中華人民共和國專利法實(shí)施細(xì)則》最新修改內(nèi)容詳解。圖文如下：

（原標(biāo)題：一圖讀懂！《中華人民共和國專利法實(shí)施細(xì)則》最新修改內(nèi)容詳解）

來源：國家知識產(chǎn)權(quán)局網(wǎng)站

編輯：IPRdaily辛夷          校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：一圖讀懂！《中華人民共和國專利法實(shí)施細(xì)則》最新修改內(nèi)容詳解（點(diǎn)擊標(biāo)題查看原文）

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