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“據(jù)美國商務部工業(yè)與安全局官方網(wǎng)站,將26家中國實體移出UVL(未經(jīng)核實清單)清單?!?/strong>
圖源:USBIS
美國當?shù)貢r間12月15日,據(jù)聯(lián)邦公報官網(wǎng)訊,美國《聯(lián)邦公報》計劃于當?shù)貢r間16日發(fā)布一份由美國商務部工業(yè)和安全局(The Bureau of Industry and Security,BIS)擬定的UVL清單(Unverified list,未經(jīng)核實清單)。清單中包含的26家中國實體或?qū)腢VL中移除。
IPRdaily將持續(xù)關注美國BIS即將正式發(fā)布的UVL。
擬定的26家中方實體包括:
1. Beijing Naura Magnetoelectric Technology Co., Ltd.;
2. CCIC Southern Electronic Product Testing Co., Ltd.;
3. Center for High Pressure Science and Technology Advanced Research;
4. Changchun National Extreme Precision Optics Co., Ltd.;
5. Chinese Academy of Geological Sciences, Institute of Mineral Resources;
6. Chinese Academy of Science (CAS) Institute of Chemistry;
7. Dongguan Durun Optical Technology Co., Ltd.;
8. Foshan Huaguo Optical Co., Ltd.;
9. Guangdong University of Technology;
10. Guangxi Intai Technology Co., Ltd.;
11. Guangxi Yuchai Machinery Co., Ltd.;
12. Guangzhou Hymson Laser Technology Co., Ltd.;
13. Heshan Deren Electronic Technology Co., Ltd.;
14. Hubei Longchang Optical Co., Ltd.;
15. Hubei Sinophorus Electronic Materials Co., Ltd.;
16. Kunshan Heng Rui Cheng Industrial Technology;
17. Shanghai Fansheng Optoelectronic Science & Technology Co. Ltd.;
18. Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.;
19. ShanghaiTech University;
20. Southern University of Science and Technology, Department of Mechanical and Energy Engineering;
21. University of Chinese Academy of Sciences, School of Chemical Sciences;
22. University of Shanghai for Science and Technology;
23. Vital Advanced Materials Co., Ltd.;
24. Wuhan Juhere Photonic Tech Co., Ltd.;
25. Wuxi Biologics (Shanghai) Co., Ltd.;
26. Zhongshan Thincloud Optics Co., Ltd.;
(原標題:美商務部工業(yè)和安全局擬將26家中方實體移出UVL)
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來源:IPtoday綜合USBIS
編譯:IP Today-何舒敏
編輯:IPRdaily趙甄 校對:IPRdaily縱橫君
注:原文鏈接:美商務部工業(yè)和安全局擬將26家中方實體移出UVL(點擊標題查看原文)
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