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如何提高專利的撰寫質(zhì)量?

機(jī)構(gòu)
知識產(chǎn)權(quán)界6年前
如何提高專利的撰寫質(zhì)量?

如何提高專利的撰寫質(zhì)量?

#本文僅代表作者觀點(diǎn),未經(jīng)作者許可,禁止轉(zhuǎn)載,不代表IPRdaily立場#


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:麻雪梅  北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司

原標(biāo)題:淺談該如何提高專利的撰寫質(zhì)量


摘  要:


一篇專利的撰寫,首先應(yīng)當(dāng)滿足:權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù),清楚、簡要地限定要求專利保護(hù)的范圍。權(quán)利要求書中的獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫應(yīng)當(dāng)從整體上反映發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)方案,記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。


同時,說明書應(yīng)當(dāng)滿足:說明書應(yīng)當(dāng)對發(fā)明或者實(shí)用新型作出清楚、完整的說明,以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)。此外,專利權(quán)利要求書撰寫質(zhì)量的高低還取決于撰寫出的獨(dú)立權(quán)利要求是否具備新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性,以及還取決于是否能夠?yàn)榭蛻魻幦〉揭粋€合理的、適當(dāng)大的保護(hù)范圍,即,確保具有較好的穩(wěn)定性。


另外,在面臨日后的專利侵權(quán)問題時,為了提高專利權(quán)利的穩(wěn)定性以及避免專利的權(quán)利要求被不必要地縮小,則需構(gòu)架好從屬權(quán)利要求,確保從屬權(quán)利要求之間的引用關(guān)系的正確性,以及確保每條從屬權(quán)利要求都要包括能夠?qū)崿F(xiàn)其有益效果的技術(shù)特征,同時,確保每個從權(quán)均對應(yīng)地解決一個技術(shù)問題。


關(guān)鍵詞:必要技術(shù)特征;以說明書為依據(jù);清楚;簡要;新穎性;創(chuàng)造性。


一、獨(dú)立權(quán)利要求在撰寫過程中容易出現(xiàn)缺少解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征的情況


(一)獨(dú)立權(quán)利要求概括的保護(hù)范圍比較大,導(dǎo)致缺少能夠解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。


1、判斷某一技術(shù)特征是否為必要技術(shù)特征,應(yīng)當(dāng)從所要解決的技術(shù)問題出發(fā)并考慮說明書描述的整體內(nèi)容,不應(yīng)簡單地將實(shí)施例中的技術(shù)特征直接認(rèn)定為必要技術(shù)特征。


(二)獨(dú)立權(quán)利要求沒有在保證其具有新穎性的前提下,將多個實(shí)施例進(jìn)行上位概括,或者對一些技術(shù)特征采用不適當(dāng)?shù)纳衔辉~,沒有有效地保護(hù)發(fā)明點(diǎn),即,沒有從字面侵權(quán)的角度來寫。


1、在侵權(quán)判定時,等同原則都適用,但是,在適用等同原則時,或多或少地都存在一些限制,在某一些國家中,如果實(shí)施例公開的技術(shù)方案沒有被權(quán)利要求字面覆蓋,則視專利權(quán)人主動放棄該部分的保護(hù),此時,專利權(quán)人是不能利用等同原則將權(quán)利要求的保護(hù)范圍擴(kuò)大到其放棄的部分。


(三)獨(dú)立權(quán)利要求寫進(jìn)非必要技術(shù)特征


獨(dú)權(quán)寫進(jìn)非必要技術(shù)特征,多半是由于代理人沒有根據(jù)技術(shù)交底書中給出的技術(shù)內(nèi)容而準(zhǔn)確地找到本申請的真正改進(jìn)點(diǎn),也就是本申請的發(fā)明點(diǎn),找準(zhǔn)本申請要解決的技術(shù)問題,然后根據(jù)這一技術(shù)問題去選擇對本申請來講必要的技術(shù)特征,獨(dú)權(quán)是在確保具有新穎性的前提下做減法。


二、獨(dú)立權(quán)利要求的布局不合理,沒有包括必要的方法、系統(tǒng)、關(guān)鍵裝置和/或關(guān)鍵部件的獨(dú)權(quán),即不符合產(chǎn)業(yè)鏈布局原則,制造侵權(quán)優(yōu)先原則,方法與裝置并重的原則


(一)撰寫某產(chǎn)品的制造方法的權(quán)利要求時并未附加上由該方法制造而成的產(chǎn)品的獨(dú)立權(quán)利要求。


1、專利申請的目的不是獲得授權(quán),而是授權(quán)后的使用和維權(quán)。所以,在申請專利時,一定要從產(chǎn)業(yè)鏈的角度重點(diǎn)考慮獨(dú)立權(quán)利要求的覆蓋對象和覆蓋范圍,否則將會降低專利的價值。


2、只是單純地撰寫方法權(quán)利要求,則在日后的侵權(quán)判定中,由于方法步驟的侵權(quán)證據(jù)不好獲取,很容易導(dǎo)致對方不侵權(quán)的情況,基于這一情況的考慮,對于發(fā)明點(diǎn)在于方法的發(fā)明,一定要基于方法發(fā)明構(gòu)建產(chǎn)品或虛擬裝置的權(quán)利要求,即,在撰寫方法權(quán)利要求時,也再附加上一份由該方法制造而成的裝置的權(quán)利要求。


三、方法獨(dú)立權(quán)利要求中存在撰寫不合理的情況


(一)方法獨(dú)立權(quán)利要求在步驟之前加上沒有必要的執(zhí)行主體。


1、方法獨(dú)立權(quán)利要求保護(hù)的是工藝、流程以及操作步驟等,所以,只需要在方法獨(dú)立權(quán)利要求中公開為滿足發(fā)明目的需要做出哪些步驟即可,至于每個步驟是由誰來執(zhí)行的,在很多方法中并不是使得該技術(shù)方案清楚、完整的必要技術(shù)特征。此外,若在每個步驟中寫明了執(zhí)行主體,則就在一定程度上限制了方法獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍。因而,在很多方法中,沒有必要寫出執(zhí)行主體,除非該執(zhí)行主體屬于區(qū)別技術(shù)特征。


(二)方法獨(dú)立權(quán)利要求中出現(xiàn)沒有必要的邏輯關(guān)系限制


1、對于方法獨(dú)立權(quán)利要求中的步驟,步驟間的邏輯關(guān)系不是很嚴(yán)格,如果加上了不必要的邏輯關(guān)系限制,則就會不合理地縮小方法獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍,除非步驟順序就是該方法的發(fā)明點(diǎn),否則不建議在方法的步驟前加上邏輯關(guān)系。


四、從屬權(quán)利要求存在的撰寫問題


(一)權(quán)利要求間的引用關(guān)系不正確導(dǎo)致權(quán)利要求的保護(hù)范圍不清楚。


1、每個權(quán)利要求都應(yīng)該是清楚、完整的技術(shù)方案,對于從屬權(quán)利要求,其技術(shù)方案是指增加新的技術(shù)特征或進(jìn)一步限定的技術(shù)特征加上其引用的權(quán)利要求的技術(shù)特征的總和,一旦權(quán)利要求之間的引用關(guān)系或技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系不準(zhǔn)確,則就會導(dǎo)致權(quán)利要求技術(shù)方案的不清楚、不完整,甚至出現(xiàn)錯誤。


2、認(rèn)真檢查從屬權(quán)利要求之間的引用關(guān)系,并通過制作權(quán)利要求樹來檢查引用關(guān)系是否錯誤,如果有錯誤,則根據(jù)技術(shù)邏輯關(guān)系對從屬權(quán)利要求的引用關(guān)系進(jìn)行調(diào)整。


3、確保每一條從權(quán)均對應(yīng)地解決一個技術(shù)問題,這樣,也可以有效地避免由于使得同一條從權(quán)同時解決了N多個技術(shù)問題,從而導(dǎo)致從權(quán)引進(jìn)了多個技術(shù)特征,進(jìn)一步地,避免使得從權(quán)的保護(hù)范圍過小,以致于使得從權(quán)在撰寫層次上不夠分明。


(二)獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫形式不夠明顯體現(xiàn)是獨(dú)立權(quán)利要求


1、從屬權(quán)利要求應(yīng)該在其引用的權(quán)利要求的基礎(chǔ)上進(jìn)行補(bǔ)充或進(jìn)一步限定,如果既不是補(bǔ)充,也不是限定,則該從屬權(quán)利要求實(shí)質(zhì)上就是獨(dú)立權(quán)利要求。然而,這可能導(dǎo)致三個結(jié)果:


1)基于從屬權(quán)利要求沒有引用到真正想引用的獨(dú)立權(quán)利要求。


2)可能存在單一性問題。


3)侵權(quán)時可能有麻煩。例如:權(quán)2引用權(quán)1,表面上看來權(quán)2是個從權(quán),實(shí)質(zhì)上卻是個獨(dú)權(quán),如果侵權(quán)方的產(chǎn)品侵犯了權(quán)2的專利權(quán),則侵權(quán)方會辯解說:權(quán)2引用權(quán)1,所以權(quán)2中的技術(shù)方案包括權(quán)1中的技術(shù)特征,而我的產(chǎn)品中卻沒有權(quán)1的技術(shù)特征,所以,不侵權(quán)。


五、技術(shù)交底書與撰寫專利質(zhì)量的關(guān)系


技術(shù)交底書寫的好與壞對代理師而言也是非常關(guān)鍵的,然而,技術(shù)交底書寫的好與壞與發(fā)明人撰寫內(nèi)容的多少并沒有直接的必然關(guān)系。有些技術(shù)交底書內(nèi)容很簡單,但是脈絡(luò)清晰、也比較有邏輯,這樣的技術(shù)交底書有助于代理師快速地理解本申請關(guān)鍵的創(chuàng)新點(diǎn)。


有些技術(shù)交底書雖然內(nèi)容寫了很多,但讀了半天也不知道它到底要解決什么問題,它關(guān)鍵的創(chuàng)新點(diǎn)是什么,所以,發(fā)明人在技術(shù)交底書中記載的內(nèi)容的多與少并不是決定專利技術(shù)交底書的好與壞的主要因素。


然而,對于代理師而言,在專利撰寫前,一定要做好充分的準(zhǔn)備,認(rèn)真的去閱讀技術(shù)交底書,根據(jù)其記載的內(nèi)容準(zhǔn)確地找出它的主要技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn),然后,對于疑惑或是不理解的地方可以在技術(shù)交底書中進(jìn)行標(biāo)記,帶著問題去和發(fā)明人進(jìn)行電話溝通。在溝通的過程中,首先要和發(fā)明人確認(rèn)本申請所要解決的主要技術(shù)問題是什么,這塊主要是看代理師是否能準(zhǔn)確地找到本申請的關(guān)鍵核心點(diǎn)。確認(rèn)無誤后,可以針對疑惑的地方進(jìn)行溝通,從而將余下的問題一個個地解決掉。與此同時,代理師會相較于之前能夠更加準(zhǔn)確、透徹地理解技術(shù)方案,這時代理師還會給出更多、更好的等同替代的技術(shù)方案,無形中相當(dāng)于拓展了技術(shù)交底書中的內(nèi)容。所以,在撰寫專利前,和發(fā)明人進(jìn)行電話溝通非常的有必要,基本上溝通的過程就是對技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行再次理解的過程,同時,也是對權(quán)利要求進(jìn)行合理構(gòu)架的過程,溝通完成后,心中已然形成了一套完整的權(quán)利要求書。


小結(jié):發(fā)明人一定要樂于接受代理師打來的電話,樂于將技術(shù)交底書中的內(nèi)容清楚地講解給代理師,發(fā)明人需要知道:能夠不厭其煩并且很細(xì)心地去詢問問題的代理師多半是很認(rèn)真、負(fù)責(zé)的代理師,他對案件的撰寫質(zhì)量要求較高。發(fā)明人還需知道代理師在詢問問題的時候,并不是單純的想知道“1+1=2”,更多的是在確定好這一點(diǎn)以后,他會考慮到會否有多種等同的可替代的技術(shù)方案,然后基于這些個等同方案對權(quán)利要求進(jìn)行合理的上位和拓展。


結(jié)論


若想撰寫出質(zhì)量比較高的權(quán)利要求書,則必須對專利法和審查指南有一定的深入了解,能夠?qū)⒎芍R靈活地運(yùn)用到實(shí)際的撰寫當(dāng)中去。同時,還要對技術(shù)方案能夠有個準(zhǔn)確的理解,然后,剖析出技術(shù)方案中的主要發(fā)明點(diǎn),從而構(gòu)架出新、創(chuàng)性較高的獨(dú)立權(quán)利要求,同時,還要確保該獨(dú)立權(quán)利要求能夠具有一個合理的保護(hù)范圍。然后,對于那些優(yōu)選的技術(shù)方案可將其布設(shè)在從屬權(quán)利要求中,對于和發(fā)明點(diǎn)的關(guān)聯(lián)性較大的優(yōu)選技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)布設(shè)在獨(dú)權(quán)之后。另外,還要確保各個從屬權(quán)利要求之間的引用關(guān)系的正確性,避免出現(xiàn)權(quán)利要求的保護(hù)范圍不清楚的問題。


此外,說明書應(yīng)當(dāng)對權(quán)利要求書中的每條權(quán)利要求均進(jìn)行充分地展開式說明,即,對于每條權(quán)利要求盡可能多地去列舉多個實(shí)施例,以滿足充分公開的要求,使本領(lǐng)域技術(shù)人員按照說明書中的記載就能夠?qū)崿F(xiàn)本申請所采用的技術(shù)方案,并解決相應(yīng)的技術(shù)問題。



參考文獻(xiàn):

[1]中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局.中華人民共和國專利法,2010.

[2]中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局.中華人民共和國專利法實(shí)施細(xì)則,2010.

[3]中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局.審查指南,2010.



來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)
作者:麻雪梅  北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
編輯:IPRdaily趙珍          校對:IPRdaily縱橫君


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