企業(yè)專利申請(qǐng)文件撰寫

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作者：劉慧麗  珠海格力電器股份有限公司

供稿：中國(guó)企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)研究院

原標(biāo)題：企業(yè)專利申請(qǐng)文件撰寫

專利，應(yīng)該是企業(yè)利器，而非門面或談資。專利，企業(yè)資產(chǎn)的一種，應(yīng)該為企業(yè)創(chuàng)造效益，而非束之高閣耗費(fèi)資源。高質(zhì)量的專利申請(qǐng)文件是產(chǎn)生高價(jià)值專利的必要條件，所以專利撰寫是企業(yè)專利管理的重要一環(huán)。

隨著國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略的推動(dòng)，隨著經(jīng)濟(jì)全球化，國(guó)內(nèi)企業(yè)越來(lái)越重視知識(shí)產(chǎn)權(quán)，越來(lái)越重視專利。大中型企業(yè)的專利持有量輕而易舉破千過(guò)萬(wàn)，但是真正能夠用來(lái)阻擊對(duì)手、稱霸行業(yè)的專利寥寥無(wú)幾。很大一部分原因是專利撰寫存在瑕疵，可以被同行輕易規(guī)避，目前各領(lǐng)域不同廠家產(chǎn)品或技術(shù)的高度雷同便是有力佐證。

企業(yè)申請(qǐng)專利的最終目的不是獲得授權(quán)，而是授權(quán)后的使用，所以專利文件撰寫建議以終為始，走一步看三步。以下是筆者在專利文件撰寫過(guò)程中的主要考慮因素。

1、權(quán)利要求整體布局

主要考慮因素：1）發(fā)明點(diǎn)及專利申請(qǐng)目的；2）實(shí)審程序：如何使申請(qǐng)能夠授權(quán)并盡可能的獲得較大的保護(hù)范圍；3）后續(xù)程序（如無(wú)效程序、侵權(quán)判定程序）：如何保證所獲的專利權(quán)在無(wú)效程序中保持穩(wěn)定且一旦被動(dòng)修改有較大的修改余地且能保住較大的保護(hù)范圍？如何避免侵權(quán)判定中權(quán)利要求保護(hù)范圍被不當(dāng)?shù)慕忉寣?dǎo)致權(quán)利要求實(shí)際保護(hù)范圍的縮??；4）如何避免競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手規(guī)避繞行。

基于上述考慮，權(quán)利要求的布局方法為：權(quán)利要求類型的確定、權(quán)利要求主題的確定，獨(dú)立權(quán)利要求及從屬權(quán)利要求之間引用關(guān)系的確定，其中重點(diǎn)需考察發(fā)明創(chuàng)造的發(fā)明點(diǎn)所在，并根據(jù)想要保護(hù)的技術(shù)方案初步確定發(fā)明的申請(qǐng)策略、是否要提優(yōu)先權(quán)、是否提分案（迷惑競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手）、初步確定發(fā)明的撰寫層次，即，考慮哪些發(fā)明點(diǎn)作為獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)行保護(hù)，哪些做為從屬權(quán)利要求進(jìn)行保護(hù)。

由于確定發(fā)明的保護(hù)類型、申請(qǐng)策略、主題確定以及初步撰寫層次均與技術(shù)方案的發(fā)明點(diǎn)分析相關(guān)，因而首先進(jìn)行發(fā)明點(diǎn)分析。

2、保護(hù)類型確定

權(quán)利要求類型分為方法權(quán)利要求和產(chǎn)品權(quán)利要求，而在復(fù)審階段，權(quán)利要求的類型是不允許修改的。

在技術(shù)方案本身涉及產(chǎn)品權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)當(dāng)考慮是否可以拓展至方法權(quán)利要求保護(hù)，在技術(shù)方案本身涉及方法權(quán)利要求，則考慮是否可以拓展至產(chǎn)品權(quán)利要求。以能夠?qū)Ρ旧暾?qǐng)的發(fā)明構(gòu)思進(jìn)行全面的保護(hù)，同時(shí)也可更大程度的避免競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手在主體結(jié)構(gòu)上的改型與規(guī)避。

3、保護(hù)主題確定

權(quán)利要求請(qǐng)求保護(hù)主題的確定，對(duì)于專利權(quán)的保護(hù)范圍及將來(lái)的維權(quán)是非常重要的。

對(duì)于發(fā)明改進(jìn)之處在于局部結(jié)構(gòu)時(shí)，可以將其單獨(dú)作為一個(gè)保護(hù)主題。且從后續(xù)侵權(quán)角度考慮，由于直接侵權(quán)與間接侵權(quán)的差異，還應(yīng)當(dāng)將包含相應(yīng)結(jié)構(gòu)的主體作為保護(hù)的主題。即XX結(jié)構(gòu)和具有XX結(jié)構(gòu)的主體均應(yīng)當(dāng)作為保護(hù)的主題。

4、獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫

獨(dú)立權(quán)利要求在權(quán)利要求書(shū)中具有最大的保護(hù)范圍，因此其撰寫的好壞對(duì)整個(gè)專利權(quán)的保護(hù)范圍非常重要。

但權(quán)利要求的保護(hù)范圍過(guò)大，無(wú)疑會(huì)增大不符合A22.2/3條款（新穎性、創(chuàng)造性問(wèn)題）、A26.4條款（不支持、不清楚問(wèn)題）、R20.2條款（缺必要技術(shù)特征問(wèn)題）的風(fēng)險(xiǎn)，因此需要權(quán)衡利弊。但考慮到審查員檢索結(jié)果的不確定性以及不同審查程序的修改規(guī)定（A33條、R51.1款、R51.3款、R61.1款）以及有關(guān)專利侵權(quán)判斷的司法規(guī)定，在合理概括權(quán)利要求的保護(hù)范圍時(shí)，應(yīng)盡量減少獨(dú)立權(quán)利要求中不必要的限定特征以及不必要的下位具體。畢竟，無(wú)論在哪個(gè)程序階段，擴(kuò)大獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍通常都是不被允許的。

實(shí)際的撰寫過(guò)程中，權(quán)利要求的保護(hù)范圍以及可能的修改余地應(yīng)該是首要考慮的因素。而對(duì)新穎性、創(chuàng)造性有較大貢獻(xiàn)的技術(shù)特征或不確定是否為必要技術(shù)特征的特征不必過(guò)于糾結(jié)，可以以附加技術(shù)特征的方式撰寫入從屬權(quán)利要求中，以在審查一旦指出該問(wèn)題時(shí)進(jìn)行修改，尤其是在無(wú)效階段，不能通過(guò)將說(shuō)明書(shū)中的技術(shù)內(nèi)容添加進(jìn)權(quán)利要求書(shū)的方式進(jìn)行修改，將所有可能有利專利權(quán)穩(wěn)定的特征寫進(jìn)權(quán)利要求書(shū)中是非常必要的。

5、從屬權(quán)利要求范圍與層次

撰寫從屬權(quán)利要求時(shí)需注意的是：

一、即便是從屬權(quán)利要求，也要考慮到其保護(hù)范圍，盡量避免將沒(méi)有關(guān)聯(lián)關(guān)系的特征寫進(jìn)同一條權(quán)利要求中，造成權(quán)利要求保護(hù)范圍不必要的縮小。

二、要考慮具有引用關(guān)系的權(quán)利要求之間的層次關(guān)系，不要出現(xiàn)前后跨度太大，否則可能在被迫以合并方式修改權(quán)利要求（如無(wú)效程序中的某一階段）時(shí)權(quán)利要求保護(hù)范圍不必要的縮小。

三、注意對(duì)發(fā)明點(diǎn)具有貢獻(xiàn)的技術(shù)特征中可能的組合方式（有些技術(shù)特征組合能夠得到的效果可能大于兩個(gè)單個(gè)特征的簡(jiǎn)單疊加）；除了說(shuō)明單個(gè)技術(shù)特征，還需強(qiáng)調(diào)和描述按照上述可能的多個(gè)技術(shù)特征組合后的方式的技術(shù)效果，以作為修改以及創(chuàng)造性爭(zhēng)辯的后備手段。

6、說(shuō)明書(shū)背景技術(shù)、技術(shù)問(wèn)題以及技術(shù)效果的撰寫

背景技術(shù)的撰寫一方面應(yīng)當(dāng)客觀反映現(xiàn)有技術(shù)的現(xiàn)狀；另一方面也應(yīng)認(rèn)識(shí)到，對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的現(xiàn)狀的描述是經(jīng)過(guò)選擇和篩選的，是應(yīng)當(dāng)與本申請(qǐng)要解決的技術(shù)問(wèn)題和發(fā)明構(gòu)思相關(guān)聯(lián)的。

考慮到可能受到創(chuàng)造性質(zhì)疑、或者無(wú)效階段的修改，不僅應(yīng)當(dāng)考慮主要發(fā)明點(diǎn)相關(guān)的背景技術(shù)、技術(shù)問(wèn)題和技術(shù)效果，還應(yīng)當(dāng)考慮次要發(fā)明點(diǎn)解決的技術(shù)問(wèn)題，并聯(lián)系該技術(shù)問(wèn)題撰寫背景技術(shù)。即，問(wèn)題的確定一方面要反映主要的發(fā)明構(gòu)思所能夠解決的技術(shù)問(wèn)題，也應(yīng)當(dāng)反映次要的發(fā)明點(diǎn)能夠解決的技術(shù)問(wèn)題。技術(shù)效果也是類似，既要反映主要的發(fā)明構(gòu)思所能夠達(dá)到的技術(shù)效果，也應(yīng)當(dāng)反映次要的發(fā)明點(diǎn)能夠達(dá)到的技術(shù)效果。但無(wú)論是技術(shù)問(wèn)題還是技術(shù)效果的闡述，都應(yīng)注意層次關(guān)系，盡量不要將多個(gè)不同方面的技術(shù)問(wèn)題或技術(shù)效果僅描繪成一個(gè)技術(shù)問(wèn)題或一個(gè)技術(shù)效果（如第二部分的問(wèn)題），以免被質(zhì)疑缺少必要技術(shù)特征或得不到說(shuō)明書(shū)支持。

對(duì)于創(chuàng)新性比較低的發(fā)明創(chuàng)造，在撰寫背景技術(shù)時(shí)應(yīng)當(dāng)注意是否包括本領(lǐng)域技術(shù)人員為何一直沒(méi)有將該種技術(shù)應(yīng)用于主體領(lǐng)域的技術(shù)偏見(jiàn)或者其他特殊問(wèn)題。對(duì)實(shí)質(zhì)審查以及復(fù)審階段對(duì)于“轉(zhuǎn)用發(fā)明”的創(chuàng)造性質(zhì)疑可能性降低，提升發(fā)明點(diǎn)創(chuàng)造性高度。

7、發(fā)明內(nèi)容部分撰寫

發(fā)明內(nèi)容部分撰寫重點(diǎn)考慮實(shí)質(zhì)審查中修改的可能性，除了復(fù)述權(quán)利要求中提及的技術(shù)方案，還要注意對(duì)各權(quán)利要求中提及的技術(shù)方案中可能的組合方式進(jìn)行描述；除了說(shuō)明單個(gè)技術(shù)特征所起作用或者取得技術(shù)效果外，還需強(qiáng)調(diào)和描述按照上述可能的多個(gè)技術(shù)特征組合后的方式的技術(shù)效果，以作為修改以及創(chuàng)造性爭(zhēng)辯的依據(jù)。增加新穎性、創(chuàng)造性修改余地。該部分可與具體實(shí)施方式部分結(jié)合考慮，在具體實(shí)施方式部分已經(jīng)提及的組合方式、或者已經(jīng)詳細(xì)描述的相關(guān)的技術(shù)效果等，在此部分可以省略，不需重復(fù)。

8、具體實(shí)施方式的撰寫

具體實(shí)施方式部分是說(shuō)明書(shū)的重要組成部分，對(duì)于充分公開(kāi)、理解和實(shí)現(xiàn)發(fā)明、支持和解釋權(quán)利要求都是極為重要的。其中對(duì)于優(yōu)選的具體實(shí)施方式描述應(yīng)當(dāng)詳細(xì)，以使得發(fā)明所屬領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)該發(fā)明。

具體而言，具體實(shí)施方式的撰寫應(yīng)當(dāng)考慮權(quán)利要求中的特征。對(duì)于權(quán)利要求中體現(xiàn)的特征應(yīng)當(dāng)予以詳細(xì)說(shuō)明，以支持權(quán)利要求、或者用于澄清權(quán)利要求中技術(shù)術(shù)語(yǔ)的含義，在侵權(quán)判定過(guò)程中用以解釋權(quán)利要求。

對(duì)與接近的現(xiàn)有技術(shù)共有的技術(shù)特征，一般可以不用做詳細(xì)的描述，但對(duì)于發(fā)明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征，無(wú)論主要發(fā)明點(diǎn)或者次要發(fā)明點(diǎn)，均應(yīng)當(dāng)做具體詳細(xì)的描述。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)該發(fā)明是說(shuō)明書(shū)中相關(guān)部分描述的最低要求，但從實(shí)質(zhì)審查、無(wú)效修改、以及侵權(quán)階段來(lái)看，具體實(shí)施方式部分的描述還應(yīng)當(dāng)達(dá)到利于權(quán)利要求解釋和權(quán)利要求修改的要求。

在描述效果時(shí)，不但要注意單個(gè)特征的效果描述，還一定要注意特征之間結(jié)合的效果描述以及將某一改進(jìn)應(yīng)用于特定領(lǐng)域或特定場(chǎng)合的效果描述，如某一常規(guī)技術(shù)手段運(yùn)用于特定場(chǎng)合或領(lǐng)域所獲得的不可預(yù)料的技術(shù)效果的說(shuō)明。

結(jié)語(yǔ)：

專利，應(yīng)該是企業(yè)利器，而非門面或談資。專利，企業(yè)資產(chǎn)的一種，應(yīng)該為企業(yè)創(chuàng)造效益，而非束之高閣耗費(fèi)資源。高質(zhì)量的專利申請(qǐng)文件是產(chǎn)生高價(jià)值專利的必要條件，所以專利撰寫是企業(yè)專利管理的重要一環(huán)。希望國(guó)內(nèi)企業(yè)的專利數(shù)量和質(zhì)量同步提升。

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作者：劉慧麗   珠海格力電器股份有限公司

供稿：中國(guó)企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)研究院

編輯：IPRdaily趙珍          校對(duì)：IPRdaily縱橫君

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