美國的單方再審程序面面觀

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作者：殷慎敏 北京品源知識產(chǎn)權代理有限公司

原標題：美國的單方再審程序面面觀

美國專利商標局的單方再審 （Ex Parte Reexamination）是指在專利權有效期內(nèi)， 任何人包括第三方，專利權人或美國專利商標局均可以根據(jù)在先公開的文獻，向美國專利商標局提請單方再審的請求。自1981年美國單方再審程序啟動到今天，它依然是授權后無效程序的重要工具。本文總結(jié)出單方再審的八個重要方面，以方便讀者全面快速了解該程序。

1、單方再審的請求人

單方再審不限制請求人，可以是專利權人，也可以是第三方，或者美國專利商標局。第三方可以匿名提請單方再審。

2、單方再審的理由

啟動單方再審的前提是根據(jù)在先公開文獻發(fā)現(xiàn)了可專利性的實質(zhì)新問題（substantial new question of patentability）。這里的在先公開文獻只限于專利文獻或印刷材料。在審查過程中沒有被引用過的新文獻，如果在技術啟示方面沒有被審查員考慮過，則可用來支持可專利性的實質(zhì)新問題的提出；而在審查過程中已被考慮過的舊文獻，如果從新的角度加以引用，也可用來支持提出可專利性的實質(zhì)新問題。

3、單方再審的審查部門

美國專利商標局審查單方再審的部門是中央復審單位 (Central Reexamination Unit)。單方再審由三名資深審查員組成的合議組執(zhí)行處理。

4、單方再審的時間表

美國專利局要求單方再審在兩年內(nèi)審結(jié)，目前的數(shù)據(jù)顯示平均審結(jié)時間是25.7月。

5、單方再審的請求

單方再審的請求需要包括如下內(nèi)容：

● 指出存在可專利性的實質(zhì)新問題的陳述

● 詳細解釋并證明所引用文獻與被請求審查的權利要求之間相關性

● 引用文獻的復印件

● 請求被審查專利的復印件

● 已將請求書復印件發(fā)給專利權人的證明

● 付費證明

6、單方再審啟動后的程序特點

● 第三方請求人無法繼續(xù)參與到后續(xù)的審查

● 單方再審程序一旦啟動，無法放棄和撤回該程序

● 請求繼續(xù)審查（RCE）程序不適用于單方再審

● 第三方請求人可以保留匿名狀態(tài)

● 專利權人對單方再審決定不服，可以向美國專利局申請復審

● 專利權人對復審決定不服，可以到聯(lián)邦巡回上訴法院提起訴訟

7、單方再審階段的官費

自2018年1月16日實施的美國專利商標局有關單方再審的最新官費見下表。值得注意的是這里的微實體只適用于專利權人提請的單方再審。

8、單方再審決定的數(shù)據(jù)統(tǒng)計

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作者：殷慎敏 北京品源知識產(chǎn)權代理有限公司

編輯：IPRdaily王穎          校對：IPRdaily縱橫君

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