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波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

機(jī)構(gòu)
知識(shí)產(chǎn)權(quán)界6年前
波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

#本文僅代表作者觀點(diǎn),未經(jīng)作者許可,禁止轉(zhuǎn)載,不代表IPRdaily立場#


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)
作者:耿樹志 企興知識(shí)產(chǎn)權(quán)
原標(biāo)題:波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用


波士頓矩陣(BCG Matrix),又稱市場增長率-相對市場份額矩陣、波士頓咨詢集團(tuán)法、四象限分析法、產(chǎn)品系列結(jié)構(gòu)管理法等。


波士頓矩陣由美國著名的管理學(xué)家、波士頓咨詢公司創(chuàng)始人布魯斯·亨德森于1970年首創(chuàng)。


波士頓矩陣認(rèn)為一般決定產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的基本因素有兩個(gè):即市場引力與企業(yè)實(shí)力。市場引力包括企業(yè)銷售量(額)增長率、目標(biāo)市場容量、競爭對手強(qiáng)弱及利潤高低等。其中最主要的是反映市場引力的綜合指標(biāo)——銷售增長率,這是決定企業(yè)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)是否合理的外在因素。


基于以上基礎(chǔ)介紹,我們可以將波士頓矩陣分析引入專利分析中,并以氣泡圖作為其表現(xiàn)形式,如圖1所示。


專利分析可將其應(yīng)用于IPC分類號的宏觀分析,用來說明技術(shù)的更替趨勢,其比條形圖的說明更加清晰,能更加形象的表示處于強(qiáng)勢發(fā)展的技術(shù)點(diǎn),和已經(jīng)衰落的技術(shù)點(diǎn),對找到技術(shù)發(fā)展方向具有顯著效果;另外,也可將其應(yīng)用于對競爭對手專利的微觀分析,在技術(shù)標(biāo)引的前提下,制作波士頓氣泡圖,可以明確企業(yè)的技術(shù)重點(diǎn),與技術(shù)研發(fā)方向,為更好的制定應(yīng)對策略,奠定良好的數(shù)據(jù)基礎(chǔ)。


下面,就以某企業(yè)的微觀分析具體介紹波士頓氣泡圖的制作方法與簡要的解讀方法。
 

波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用圖1


一、波士頓氣泡圖的制作方法


波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

圖2


如圖2所示,將已下載的著錄項(xiàng)數(shù)據(jù)進(jìn)行微觀標(biāo)引,確定該公司具體涉及的技術(shù)點(diǎn),在此基礎(chǔ)上對標(biāo)引項(xiàng)與申請年進(jìn)行數(shù)據(jù)透視,形成如圖2所示的數(shù)據(jù)透視表。

 
波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

圖3


如圖3所示,在數(shù)據(jù)透視表的基礎(chǔ)上,增加一列占有率數(shù)據(jù),其是某一技術(shù)點(diǎn)占所有專利數(shù)量的比例,以百分量表示。設(shè)置如圖所示的公式,并拖動(dòng)獲得所有數(shù)據(jù)。
 

波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

圖4


如圖4所示,在確定某一技術(shù)點(diǎn)的占有率之后,還需要確定其平均增長率,平均增長率按照公式A(1+X)n=B確定,其中A是專利起始年的專利申請數(shù)量,B是專利的數(shù)量,n是從專利起始年開始計(jì)算至統(tǒng)計(jì)終止年結(jié)束的年數(shù),X即為平均增長率。


完成以上步驟之后,需要收集關(guān)鍵數(shù)據(jù),形成制圖表格,其中關(guān)鍵數(shù)據(jù)包括:技術(shù)點(diǎn)名稱、占有率、增長率、技術(shù)點(diǎn)總計(jì)。形成如圖5的表格。

 
波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

圖5


以B列、C列數(shù)據(jù)制作氣泡圖,如圖6所示。

 
波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

圖6

 
波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

圖7


編輯數(shù)據(jù)系列,如圖7,以總計(jì)數(shù)據(jù)對氣泡大小進(jìn)行設(shè)定。結(jié)果如圖8所示。

 
波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

圖8


更改氣泡顏色,使每一類都具有不同的顏色,勾選依數(shù)據(jù)點(diǎn)著色。如圖9所示。
 

波士頓氣泡圖的制作方法及其在專利分析中的應(yīng)用

圖9


至此,波士頓氣泡圖基本制作完成,后期再對圖表標(biāo)題,以及數(shù)據(jù)圖表內(nèi)各氣泡的標(biāo)簽進(jìn)行調(diào)整,增加線性趨勢線,即完成如圖1所示的技術(shù)點(diǎn)開發(fā)趨勢圖。


二、波士頓氣泡圖的基本解讀


如圖1所示,其中橫坐標(biāo)代表每一技術(shù)點(diǎn)的技術(shù)占有率,縱坐標(biāo)代表平均增長率,氣泡大小代表具體專利數(shù)量,其中靠近右上角代表該技術(shù)在企業(yè)內(nèi)處于活躍區(qū),其專利數(shù)量增長較快,是企業(yè)的重點(diǎn)研發(fā)方向,也是其技術(shù)發(fā)展方向,可以說是其核心技術(shù)的所在;靠近左下角代表該技術(shù)處于收縮期,或者是一些企業(yè)的周邊技術(shù),在技術(shù)分析時(shí)可以酌情減低分析難度;而左上角屬于該企業(yè)的新生技術(shù),還處于發(fā)展階段,尚未形成有力保護(hù),但也會(huì)被企業(yè)逐漸重視,對競爭對手而言,這可能會(huì)成為遏制其專利發(fā)展的切入點(diǎn),應(yīng)該予以重視;而右下角有可能屬于企業(yè)即將淘汰的技術(shù)點(diǎn),屬于更新?lián)Q代中的老技術(shù),或者屬于企業(yè)遇到技術(shù)瓶頸的一系列技術(shù),正處于開發(fā)期,這需要與企業(yè)的實(shí)際發(fā)展來具體分析。


以圖1為例,從圖中可知,該企業(yè)的核心技術(shù)包括控制模塊、定位模塊、減速器,這恰恰是執(zhí)行器企業(yè)的核心競爭技術(shù),因此該分析方法具有一定的可操作性。


另外,用于宏觀IPC分析的時(shí)候,其解讀方法與對企業(yè)的基本類似,只是其揭示的是宏觀技術(shù)的發(fā)展方向。



來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:耿樹志 企興知識(shí)產(chǎn)權(quán)

編輯:IPRdaily王穎          校對:IPRdaily縱橫君


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