集成電路布圖設計登記申請?zhí)接?/a>

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來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：潘煒

原標題：集成電路布圖設計登記申請?zhí)接?/span>

筆者發(fā)現(xiàn)，部分集成電路設計企業(yè)對于申請布圖設計登記能為企業(yè)帶來多少好處不是很了解，此外也擔憂技術機密可能會因此而泄露給競爭對手。本文就集成電路布圖設計登記申請進行探討。

前段時間參與某基金項目，因項目需要訪談了數(shù)家集成電路設計企業(yè)，發(fā)現(xiàn)部分企業(yè)對于申請布圖設計登記能為企業(yè)帶來多少好處不是很了解，此外也擔憂技術機密可能會因此而泄露給競爭對手。

根據(jù)布圖設計保護條例【1】，布圖設計權(quán)利人享有的權(quán)利為：

1. 對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分進行復制；

2. 將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業(yè)利用。

相應地，未經(jīng)權(quán)利人許可的以下行為構(gòu)成侵權(quán)行為：

1. 復制受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分的；

2. 為商業(yè)目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的。

可以看出，布圖設計專有權(quán)的保護范圍不包括制造行為，而且比專利的壟斷性保護力度要小，但申請保護的門檻也相應較低，只要具有獨創(chuàng)性，即該布圖設計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果，并且不是公認的常規(guī)設計即可。

通過反向工程，獲取他人的技術秘密是合法的，但通過此途徑獲取已申請布圖設計保護的方案，則構(gòu)成侵權(quán)行為。因此在技術秘密難以有效保護的情況下，比如企業(yè)的內(nèi)部機制難以有效防止秘密外泄，或者技術方案容易被競爭對手通過反向工程獲取等，可以考慮申請布圖設計登記進行保護。

布圖設計所享有的權(quán)利，并不僅是將布圖設計作為整體進行保護，對于設計中任何一個具有獨創(chuàng)性的部分也進行保護，這樣，即使競爭對手對于非法獲取的整體方案進行改動，只要有些設計模塊沒有相應更改，比如一些不容易繞開的模塊，那么也構(gòu)成侵權(quán)。在鉅泉光電訴上海雅創(chuàng)等侵害集成電路布圖設計專有權(quán)糾紛一案中，法院認為布圖設計中的那些基本電路或者起輔助性功能的部分只要滿足獨創(chuàng)性以及非公認的常規(guī)設計也應受到保護。【2】

布圖設計專有權(quán)的侵權(quán)行為成立的，權(quán)利人可要求侵權(quán)人立即停止侵權(quán)行為，并承擔賠償責任，包括權(quán)利人為制止侵權(quán)行為所支付的合理開支，比如律師費、公證費等，這在一定程度上有效地支持了權(quán)利人進行維權(quán)。

布圖設計的保護期為10年，自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起計算，以較前日期為準。無論是否登記或者投入商業(yè)利用，布圖設計自創(chuàng)作完成之日起15年后，不再受保護。

另外，我國對集成電路布圖設計保護實行登記保護的原則，保護的起始時間為布圖設計申請日，布圖設計的商業(yè)利用時間在先，并不意味著其布圖設計專有權(quán)權(quán)利應優(yōu)先受到保護。并且，登記申請需在世界任何地方首次商業(yè)利用之日起２年內(nèi)提出。

企業(yè)關于申請布圖設計登記后可能泄密的擔憂是可以理解的。確實，布圖設計登記公告后，公眾可以查閱布圖設計的復制件或者圖樣，有觀點認為 這是類似于專利制度的“公開換保護”的原則，盡管該觀點存在爭議。申請布圖設計登記時，申請者需要提供布圖設計的復制件或者圖樣，可選提供的是布圖設計的電子版，如果已投入商用，則樣品也需提供。但公眾只能查閱復制件或圖樣的紙件，并不能獲取電子版，以及樣品。

企業(yè)關于申請布圖設計可能泄密的擔憂可以通過在申請登記時申明有保密信息來解決，保密信息的比例可達到整個布圖設計的50%，保密信息部分不對公眾公開。需要注意的是申請保密信息要求在申請日前該布圖設計尚未投入商業(yè)利用。【3】

申請布圖設計登記時，申請人可決定將設計方案的全部或者部分進行申請登記，但需要特別關注的是，申請的布圖設計的圖樣、復制件需清晰，且相對完整，應是至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置。提交的布圖設計的復制件或者圖樣，應當至少放大到用該布圖設計生產(chǎn)的集成電路的２０倍以上，其將作為后期維權(quán)時進行對比的主要載體，申請時提交的樣品只是輔助，不能起到替代作用。昂寶電子與南京智浦芯聯(lián)的集成電路專有權(quán)糾紛案中，即使昂寶電子費力地證明了涉嫌侵權(quán)產(chǎn)品系被告所銷售，但由于申請布圖設計的圖樣不符合要求，無法確定該布圖設計專有權(quán)的保護范圍，昂寶電子主張以集成電路樣品來確定布圖設計的保護范圍未被認可，被判敗訴，盡管昂寶電子覺得很委屈，提起上訴，甚至到最高法院申請再審，均被駁回。【4】【5】

最后，企業(yè)可根據(jù)技術方案特點及競爭情況，確定申請專利保護，布圖設計保護，還是以技術秘密方式進行保護。

參考資料：

【1】 《集成電路布圖設計保護條例》，2001年10月1日期實施。

【2】 鉅泉光電科技(上海)股份有限公司訴上海雅創(chuàng)電子零件有限公司等侵害集成電路布圖設計專有權(quán)糾紛，（2014）滬高民三（知）終字第12號，上海市高級人民法院。

【3】《集成電路布圖設計保護條例實施細則》，2001年10月1日起實施。

【4】 昂寶電子（上海）有限公司與南京智浦芯聯(lián)電子科技有限公司、深圳市芯聯(lián)半導體有限公司等侵害集成電路布圖設計專有權(quán)糾紛二審民事判決書，（2013）蘇知民終字第0180號，江蘇省高級人民法院。

【5】南京智浦芯聯(lián)電子科技有限公司、深圳市梓坤嘉科技有限公司、深圳市芯聯(lián)半導體有限公司與昂寶電子（上海）有限公司侵害集成電路布圖設計專有權(quán)糾紛申請再審民事裁定書，（2015）民申字第745號，最高人民法院。

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：潘煒

編輯：IPRdaily王穎          校對：IPRdaily縱橫君

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